浙江日久请求附着力强的导电膜及其制备工艺专利使导电膜具有优秀的附着力

  金融界2024年10月29日音讯，国家知识产权局信息数据显现，浙江日久新材料科技有限公司请求一项名为“附着力强的导电膜及其制备工艺”的专利，公开号 CN 118824608 A，请求日期为2024年8月。

  专利摘要显现，本发明公开了附着力强的导电膜及其制备工艺，附着力强的导电膜包含基材层，所述基材层上顺次层叠设有上涂布层、打底层、硅铝混合层、ITO层、附着力层和铜层，其间，打底层的原料选自SiO 2、Ti、TiO2、Si、Al2O3、MgF2、SiO、HfO2、SnO2和Y2O3，附着力层为Ti层。本发明中的导电膜具有优秀的附着力，且耐候性高，安稳性高，具有安稳的使用性能。

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