北京航空资料研究院请求同质复合通明导电膜及其制备办法和使用专利同质复合通明导电膜在不耐温基板外表功能优异

  金融界2025年3月22日音讯，国家知识产权局信息数据显现，北京航空资料研究院股份有限公司请求一项名为“同质复合通明导电膜及其制备办法和使用”的专利，公开号 CN 119650143 A，请求日期为 2024 年 11 月。

  专利摘要显现，本发明归于光电子信息资料技术领域，详细触及一种同质复合通明导电膜及其制备办法和使用。本发明中同质复合通明导电膜是指在基板的至少一侧面上顺次叠层设置的多层通明导电膜，所述多层通明导电膜的原料相同；所述多层通明导电膜选用不一样的磁控溅射镀膜工艺参数制备。本发明中的同质复合通明导电膜在不耐温基板外表的抗加热开裂和膜基结合力方面具有优异才能的功能，可以拓宽通明导电膜在相应器材的工程化使用。

  天眼查资料显现，北京航空资料研究院股份有限公司，成立于2000年，坐落北京市，是一家以从事铁路、船只、航空航天和其他运输设备制造业为主的企业。企业注册本钱45000万人民币，实缴本钱36000万人民币。经过天眼查大数据分析，北京航空资料研究院股份有限公司共对外出资了11家企业，参加招投标项目2420次，产业线条，此外企业还具有行政许可134个。

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